【摘 要】
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在单晶硅与ULE基底上采用离子辅助热蒸发沉积方式镀制了红外激光薄膜,对不同擦洗方式与同一基底不同粗糙度对薄膜吸收的影响进行了研究,同时对单晶硅与ULE基底上镀制的薄膜在
【机 构】
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中国科学院光电技术研究所; 中国科学院自适应光学重点实验室;
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在单晶硅与ULE基底上采用离子辅助热蒸发沉积方式镀制了红外激光薄膜,对不同擦洗方式与同一基底不同粗糙度对薄膜吸收的影响进行了研究,同时对单晶硅与ULE基底上镀制的薄膜在激光辐照下的温升与热畸变进行了对比分析,并利用有限元软件数值模拟了薄膜受激光辐照下的热畸变特性,结果表明:超声波清洗方式比手动擦洗方式镀制的薄膜吸收较低,基底粗糙度对红外薄膜吸收有较大影响,在同一沉积工艺下,采用单晶硅作为基底镀制的薄膜在激光辐照下温升较低,ULE为基底的热变形较小,说明ULE是一种在未来红外激光系统中具有很大潜力的基底材料。
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