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不同离子注入条件下制备三元镍铁硅化物层
【机 构】
：
理工大学三束国家重点联合实验室,中国科学院北京电子显微镜实验室
【出 处】
：
'98全国材料表面与界面的科学与工程研讨会
【发表日期】
：
1998年期
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