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TiO2薄膜由于其高折射率和机械强度，稳定的化学特性，高介电常数等特性，在光学、光电子学及电子学等领域有广泛的应用前景。近些年对TiO2薄膜改性的研究日益增多。射频磁控溅射法制备薄膜具有操作简单，重复性好等优点，是一种薄膜制备与改性的有效手段。用二氧化钛靶来制备薄膜，而且溅射气体只需使用单一的氩气，从而可将复杂的反应控制过程转化为较简单的制靶过程。因此利用磁控溅射制备性能优良的TiO2薄膜的研究具有重要实用价值和社会经济效益。