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Ｎ＃-[2]分压对ＲＦ反应溅射制备非晶ＷＳｉｘＮＹ薄膜影响
【机 构】
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电子部第13研究所
【出 处】
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第四届全国固体薄膜学术会议
【发表日期】
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1994年期
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