【摘 要】
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以Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体材料制作双异质结构和多量子阱(乃至光子晶体)平面光波光路器件已经成为世界研究热点,在研发过程中其芯片测试是极其重要的环节.本文以耦合器和滤波器芯片为例研究了GaAs/GaAlAs平面光波光路的光学测试技术.首先分析了测试系统范式,并依据其中一个标准建立实验系统,对两种平面光波光路进行测试.最后讨论了其结果和误差,并对系统提出了改进方法.
【出 处】
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全国第十一次光纤通信暨十二届集成光学学术会议(OFCIO2003)
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以Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体材料制作双异质结构和多量子阱(乃至光子晶体)平面光波光路器件已经成为世界研究热点,在研发过程中其芯片测试是极其重要的环节.本文以耦合器和滤波器芯片为例研究了GaAs/GaAlAs平面光波光路的光学测试技术.首先分析了测试系统范式,并依据其中一个标准建立实验系统,对两种平面光波光路进行测试.最后讨论了其结果和误差,并对系统提出了改进方法.
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