【摘 要】
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目前国内制备状态方程靶主要采取机械研磨制备金属铀膜,然后通过精密复合、装配形成靶,这种方法不可避免的会引入中间层,而中间层的厚度、成分都难以准确表征,这必然影响到实验数
【机 构】
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中国工程物理研究院激光聚变研究中心,四川绵阳621900
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目前国内制备状态方程靶主要采取机械研磨制备金属铀膜,然后通过精密复合、装配形成靶,这种方法不可避免的会引入中间层,而中间层的厚度、成分都难以准确表征,这必然影响到实验数据的精密性。因而,人们一直想探索通过沉积的方法,直接在标准材料基底上沉积待测材料台阶,避免装配引入的中间过渡层。然而,铀非常活泼,尤其是原子态的铀,对氧、水都有非常强的俘获能力。制备高纯、高密度金属U膜技术成为制备这种状态方程靶的关键技术。国外曾经报道采用磁控溅射成功制备厚度纳米级到几十个微米的金属U膜,氧含量低于5%,密度接近体密度,国内也曾经采用磁控溅射制备金属U膜,但结果并不理想。本文报道探索磁控溅射法制备U状态方程靶的最新进展。
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