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本研究设计了一种新型的多阴极弧等离子体源,该装置可装配四个放电参数独立可调的金属阴极。采用探针对等离子体的分布均匀性、磁导管偏压和约束磁场电流进行测试分析和优化。利用该装置制备了具有不同Si含量的多元TiAlSiN复合薄膜,利用EDX、SEM、XRD、XPS和纳米探针对薄膜的微结构和力学性能进行测试分析,结果表明：在Si含量为0.64 at.％时,薄膜具有高的的硬度32GPa,但薄膜的断裂韧性和结合强度差,而在Si含量为5.33 at.％时,薄膜具有高的的硬度30GPa,此外,薄膜具有较好的断裂韧性和结合强度。