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本文详细报导了使用铝掩模制作聚合物阵列波导光栅复用器（AWG）的工艺。重点研究了光刻掩模的形成和反应离子刻蚀（RIE）的过程。为了改善波导断面的轮廓，我们使用溅射的铝膜作为掩模，来代替常用的光刻胶。讨论了溅射过程对于器件的影响，包括对于芯层表面的破坏和在器件中引起的吸收损耗。分析了刻蚀参数（包括射频功率和氧气流速度）对波导的形状和质量的影响。给出了优化的实验参数。测试结果表明，制作的波导在1550nm 波长处实现了单模传输。