【摘 要】
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利用金属蒸汽真空弧技术产生的高密度金属等离子体，直接送入靶室，进行金属等离子体沉积和注入，可以获得高质量的各种金属薄膜，这是一种新型的制备薄膜的方法和手段。该文将介绍该
【机 构】
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师范大学低能核物理所(北京市辐射中心),国家教委射线束与材料工程
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利用金属蒸汽真空弧技术产生的高密度金属等离子体，直接送入靶室，进行金属等离子体沉积和注入，可以获得高质量的各种金属薄膜，这是一种新型的制备薄膜的方法和手段。该文将介绍该所新近研制成功的一台具有三个金属等离子体源的金属等离子体沉积和注入装置。该装置使用磁过滤的方法，滤掉真空弧产生的金属等离子体中的大颗粒微粒，因此导向靶室中是无颗粒的纯净的金属等离子体，大大的提高了制备薄膜的质量。该装置是一台研究设备，各种金属的制备速率最高为３－４Ａ／秒，可以制备多种金属单质膜，多层膜和复合膜，是制备各种超硬膜、半导体薄膜，超导薄膜、光学薄膜等比较理想的制备薄膜的装置。
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