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光学膜系的膜层厚度的均匀性是指膜层厚度随着基板表面位置变化而变化的情况.膜厚均匀性不好,膜系特性会遭到严重的破坏.影响膜厚均匀性的因素比较多,而且相互之间有一定的制约作用.通过反复实验修正挡板、烘烤温度、蒸发速率、充气压强等工艺因素,最终确定工艺参数以达到比较理想的膜厚均匀性.
真空镀膜中膜厚均匀性的研究
【摘 要】
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光学膜系的膜层厚度的均匀性是指膜层厚度随着基板表面位置变化而变化的情况.膜厚均匀性不好,膜系特性会遭到严重的破坏.影响膜厚均匀性的因素比较多,而且相互之间有一定的制
【机 构】
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山东北方光学电子有限公司 山东泰安271000
【出 处】
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2010微制造技术及数字化工艺学术研讨会
【发表日期】
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2010年期
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