光刻机投影物镜波像差所致套刻误差的计算与分析

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<正>投影物镜的波像差是影响投影式光刻机套刻精度的一个重要因素。随着光刻特征尺寸的不断减小,波像差对套刻精度的影响越来越突出。深入理解波像差对套刻精度的影响,无论对于充分发挥现有光刻设备作用,还是分析新型光刻设备的像差容限都具有重要意义。本文利用波像差理论分析了高分辨率光刻中投影物镜波像差对套刻精度的影响,提出了一套不同条件下波像差所致套刻误差的算法。利用国际上公认的半导体行业专用光刻仿真软件PROLITH与本模型分别对波像差所致套刻误差(AIO)进行了计算对比。图1(a)反映了
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