【摘 要】
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采用电子束蒸发、射频磁控溅射、等离子喷涂等方法,在镍基高温合金基底上制备YSZ(12wt％Y2O3 稳定的ZrO2)、Al2O3 复合薄膜结构绝缘层,并研究了复合薄膜结构绝缘层在室温到
【机 构】
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电子科技大学 电子薄膜与集成器件国家重点实验室,四川 成都 610054
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采用电子束蒸发、射频磁控溅射、等离子喷涂等方法,在镍基高温合金基底上制备YSZ(12wt％Y2O3 稳定的ZrO2)、Al2O3 复合薄膜结构绝缘层,并研究了复合薄膜结构绝缘层在室温到800℃范围内的绝缘特性、高温对复合薄膜晶体结构和表面形貌的影响.结果表明：晶态YSZ/非晶态YSZ/Al2O3 结构绝缘层室温下绝缘电阻大于1.2GΩ,在800℃大气环境下保持有较高的150KΩ左右绝缘电阻,在室温到800℃范围内,绝缘电阻呈近指数下降变化规律,YSZ 的立方相结构未发生改变,Al2O3 表面十分致密,表明该复合结构绝缘层薄膜具有良好的高温绝缘性能和高温稳定性.
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