【摘 要】
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本文采用元素分析和镀层形貌相结合的方法探讨镀层初期形核机理。研究结果表明前处理后造成基体表面出现性质不同且导致不同的沉积过程的两相。第一类为裸露的Mg基体位置，第二类为酸洗后残留在表面的氧化镁位置。在第一类位置上会发生镍的电化学形核反应和基体腐蚀反应，初始镍核出现在基体第二相β相(Mg17Al12)，该处主要以形核反应为主。在第二类位置上，氧化镁膜首先发生溶解，然后在露出的新基体表面发生第一类位置
【机 构】
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厦门大学化学化工学院,厦门,361005
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本文采用元素分析和镀层形貌相结合的方法探讨镀层初期形核机理。研究结果表明前处理后造成基体表面出现性质不同且导致不同的沉积过程的两相。第一类为裸露的Mg基体位置，第二类为酸洗后残留在表面的氧化镁位置。在第一类位置上会发生镍的电化学形核反应和基体腐蚀反应，初始镍核出现在基体第二相β相(Mg17Al12)，该处主要以形核反应为主。在第二类位置上，氧化镁膜首先发生溶解，然后在露出的新基体表面发生第一类位置上的形核反应，在此位置主要以镍核的生长为主。
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