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ZnO薄膜是一种直接宽带隙半导体材料,具有多种用途,可广泛的应用于太阳能电池、压电薄膜、光电器件、气敏器件和紫外探测器等方面。其特性可通过适当的掺杂来调剂。尤其是近年来对ZnO基稀磁半导体材料的研究越来越为人们所重视,为了研究Fe掺杂对ZnO薄膜光学特性的影响,本文采用射频磁控溅射法分别在Si(111)及Al2O3衬底上制备了Fe掺杂ZnO薄膜,分别对它们的结构和光学性质进行了研究。一.室温下,在Si(111)衬底上制备了Fe-ZnO(FexZn1-xO, x = 0, 0.08,