本论文针对新型减反微纳结构表面的加工过程中涉及的光学测量问题,对一维和二维微纳结构表面反射率的测量方法开展研究,研究结果将为微纳结构应用于大型户外设施如太阳能电池减表面,以及强激光光学元件表面实现抗损伤减反射功能等,提供理论和实验基础支持。现阶段利用光刻技术制备的微纳减反结构,一般为一维和二维光栅,或者点、孔阵列结构。这些一维和二维表面周期型浮雕结构与传统的减反射光学元件相比,有迥异的光学特性,故需要针对其表面反射率特性,研究适合于一维和二维周期型浮雕结构的反射率测量方法。本文通过研究周期型微纳结构(一维亚波长矩形光栅)的表面反射特性,分析了对反射率影响的因素,提出了微纳结构反射率测量方案。首先在阅读大量国内外文献的基础上,研究了现有的光学元件反射率测量方法,及其应用在微纳结构反射率检测方面的局限性。其次利用等效介质理论结合薄膜光学理论求出亚波长结构光栅表面反射率的表达式。通过对亚波长减反射光栅进行设计模拟,得到最佳的一维矩形亚光栅减反结构参数。明确了周期型微纳结构的反射率影响因素为入射角度、刻蚀深度、填充因子、光栅周期。在对微纳结构反射特性研究的基础上,针对微纳结构反射率的测量提出了新的方案,详细介绍了测量系统的总体结构、光学系统以及器件的选型。并且搭建了实验系统,对样品进行了多入射角和多方位角反射率测量。测量的波段范围为500-800nm,被测样品选用了1800线的刻线光栅和3600线的全息光栅,对在方位角一定入射角改变的情况下,和入射角一定方位角变化的情况下,分别进行了反射率的测量。实验结果表明,随着光线入射角以及光栅方位角的改变,被测样品的反射率的变化规律与理论研究预期的变化规律一致,验证了测量方案的可行性。