长期以来,钙钛矿结构氧化物材料具有良好的介电性、铁电性、光电性、铁磁性、超导等性质,引起人们广泛的关注。铝酸镧（LaAlO₃）是一种宽禁带钙钛矿氧化物材料,它具有晶格匹配好、介电常数大、热稳定性好、光学带隙宽等优点常被用作高温超导衬底材料及光电材料。近年来,具有伪立方钙钛矿结构的LaAlO₃薄膜是一种比较理想代替SiO₂作为金属氧化物半导体场效应管（MOSFET）栅极电介质材料的高介电常数材料。此外,LaAlO₃晶体在电子器件、催化、高温燃料电池等方面得到了广泛应用。本论文采用射频磁控溅射方法在p-Si（100）衬底上制备了LaAlO₃薄膜,氩气作为溅射气体。在空气气氛下,对样品进行不同温度的后退火处理。通过X射线衍射仪（XRD）、原子力显微镜（AFM）等测试手段表征了LaAlO₃薄膜的结构和表面形貌,研究了退火对结晶状况和表面粗糙度的影响。XRD和AFM研究结果表明:本文在Si衬底上生长的LaAlO₃薄膜是非晶的,样品经900oC退火开始由非晶向晶体转变,说明高温退火有利于提高结晶质量。随着退火温度的提高,表面粗糙度也明显增加。利用吸收光谱和光致发光谱分析了LaAlO₃薄膜的光学特性,并研究了退火处理对薄膜发光特性的影响。通过对退火前后样品光致发光谱（PL）测量发现样品在368nm、470nm位置处分别出现发光峰,但峰位基本保持不变。各峰的强度随退火温度的升高逐渐增强,这和薄膜结晶质量的提高有关。根据吸收光谱和缺陷能级图,推测出368nm紫光峰来源于电子从氧空位形成的缺陷能级到价带顶能级的跃迁,470nm附近的蓝光峰归因于电子从Al La错位缺陷能级到价带顶的能级跃迁。