光力系统中的克尔非线性效应

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最近几年以来,量子腔光机械系统发展迅速,在理论和实验上引起了广泛的关注。最经典的光力模型主要由一个光学微腔和一个机械振子通过相互作用组成。在光学微腔中,机械振子会受到光子产生光压的影响,机械振子在本征频率附近做自由振动,这种作用是相互的,振子的振动对光场也会产生影响。光力模型具有很多优良的特性,如超高品质因子、超高频率、超轻有效质量、超高灵敏度等性质。利用这些特点,可用来进行力和位移的探测和测量。通过辐射压实现的机械与光场自由度的相互作用在机械运动的控制和测量上正经历着新的模式转换。光压耦合为新的科学研究提供了新的思路。它将可能超越精密测量,成为控制冷却和放大的新技术。不仅如此,光力系统在量子信息处理的应用也越来越广。在腔光机械系统所有的非线性现象中,光学双稳态是具有非常重要的意义,在实验上已经得到了广泛的研究。对镜子运动的效应首先在光学双稳中得到论证,腔光机械系统非线性的应用为量子信息处理提供了新的方法与手段。光子和声子转换是通过使用现有的硅OMC技术实现的,它们表明了光子声子转换在经典光学通讯和量子信息处理上是非常重要的。本文主要研究了光学微腔中克尔非线性效应,我们首先给出了系统的有效哈密顿量,通过求解光场和机械模幅度,进一步分析了两种非线性效应、双稳态以及参数增益对机械膜的影响,研究发现,通过改变克尔参数,可以控制机械模的强度。
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