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基于二元金属氧化物的阻变式随机存储器(RRAM)由于结构简单、价格低廉等诸多优点,成为了人们研究的热点。ZnO是一种宽禁带半导体,能够广泛应用于电学和光学领域,同时与传统的半导体工艺兼容,所以常被人们选作阻变功能层。目前RRAM的研究还面临着很多问题,如选择不同的功能层及电极材料引起阻变行为各不相同,而且阻变机制也还不清楚。本文采用磁控溅射制备了Pt作为底电极,ZnO、ZnO-Co和ZnO-Cu分别作为阻变功能层,Pt、Au、Cu和Co分别作为顶电极的阻变器件,分析了它们的结构和阻变特性,并对其阻变