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本文以纯度为99.99%金属Ti为靶材,玻璃为基底,Ar为溅射气体,N_2和O_2的混合气体为反应气体,通过直流磁控溅射法制备不同参数下的TiO_(2-x)N_x薄膜,并通过基底加热或后续退火的方法使薄膜得到进一步晶化。利用XRD,TEM,XPS,紫外—可见光吸收光谱及光催化反应等测试方法系统分析了不同工艺参数对薄膜的晶型结构、成份组成、性能等方面的影响。本实验研究结果表明:在室温下运用直流磁控溅射法制备的TiO_(2-x)N_x薄膜为非晶态。对薄膜进行退火处理后,薄膜主晶相为TiN晶体结