TiO<,2>薄膜具有高的化学稳定性、优异的光学性能、光催化性能、高介电常数、良好的抗凝血性能、高的机械强度,使其在材料涂层、光学薄膜、环境保护等领域有着广泛的应用前景.而目前对于抗凝血性的TiO<,2>薄膜的制备工艺参数的优化与量化,以及对TiO<,2>薄膜的生长机理、性能的理论研究还有待于深入.本实验是采用RF磁控溅射法在玻璃基片上制备TiO<,2>薄膜,并通过改变工艺参数着重探讨影响薄膜表面性能的因素.其中,对其表面亲水性能和抗凝血性能进行了比较深入的研究.本论文中,对磁控溅射制备的TiO<,2>薄膜采用椭圆偏振光测厚仪测量薄膜的厚度及折射率;采用接触角测定仪测量薄膜与水的表面接触角来表征薄膜的亲水性能;采用紫外-可见分光光度计测定薄膜的紫外可见吸收光谱;采用傅立叶变换红外光谱仪检测薄膜的红外反射光谱;采用原子力显微镜观察薄膜的表面形貌和测定表面粗糙度.而薄膜的抗凝血性能用动态凝血时间测定法表征.研究结果表明:在本实验工艺参数范围内,制得的TiO<,2>薄膜表面光洁、致密均匀,薄膜表面与水的接触角较大,具有较强的疏水性能.TiO<,2>薄膜的制备工艺参数如氧氩流量比(O<,2>/Ar)、基片温度以及热处理和紫外光照等后处理显著影响薄膜表面形貌、光学性能和抗凝血性能.随着O<,2>/Ar比的减小,薄膜的沉积速率和折射率增加,紫外吸收边红移.随着基片温度的增加,薄膜中浑圆状的无定形颗粒向定向的柱状晶粒转变,紫外吸收边红移,表面粗糙度增加.而TiO<,2>薄膜表面通过紫外光照和热处理可获得超亲水性.同时,与未镀膜的玻璃基片对比,镀TiO<,2>薄膜的基片抗凝血性能得以明显改善.一般在高的基片温度和低的O<,2>/Ar比所制备的薄膜具有较好的抗凝血性能,而热处理和紫外光照不利于改善薄膜的抗凝血性能.