CF₄、NF3等全氟化合物（Perfluoro compounds）被广泛用作半导体工业的蚀刻气和清洗气,具有极高的温室效应潜值（GWP）,如CF₄的GWP为CO₂的6500倍,在大气中的寿命长达50000年。无水条件下CF₄、NF3与金属氧化物直接反应,转化为无害的固体氟化物,是消除这类温室气体的一种有效方法。本论文考察了无水条件下CF₄在Al₂O₃基脱氟剂、氟化钠-单质硅-金属氧化物（NaF- Si-MO）三元混合物上的直接分解反应,考察了NF3在Al₂O₃基脱氟剂上的无水分解反应。用XRD、BET、SEM-EDS、XPS等技术对反应前后的脱氟剂进行了结构表征,得到了以下结果: （1）CF₄与Al₂O₃程序升温反应至700°C时,CF₄转化率达到最高。850°C恒温反应时Al₂O₃的稳定性较高,而900°C恒温反应时部分γ-Al₂O₃转变成了低活性的α-Al₂O₃导致Al₂O₃快速失活。在Al₂O₃表面负载助剂P,热处理后生成的AlPO4保护层抑制了未反应的Al₂O₃发生α相变,提高了γ-Al₂O₃的稳定性,使更多Al₂O₃参与了CF₄的分解反应。（2）NaF-Si-MO与CF₄的反应活性很高,850°C反应时NaF-Si-MgO、NaF-Si-CaO、NaF-Si-CeO₂上的CF₄初始转化率近100%。反应后NaF-Si-MO中MO的相变不同,Al₂O₃、MgO转化为Na3AlF6、NaMgF3,CaO、SrO、BaO转化为CaF2、SrF2、BaF2,La₂O₃、CeO₂转化为低价态的LaF2、CeF3,部分CeO₂、MgO、CaO、SrO、BaO还转化为Ce4.67（SiO4）3O、Mg2SiO4、Ca3Si2O7、SrSiO3、Ba2SiO4等硅酸盐。结合XRD和XPS表征结果,提出了CF₄在各NaF-Si-MO上的分解反应方程式:①12NaF + 3Si + 2Al₂O₃ + 3CF₄ = 3SiO₂ + 4Na3AlF6 + 3C,②3Si + 2La₂O₃ + 2CF₄ = 3SiO₂ + 4LaF2 + 2C,③72Si + 156CeO₂ + 33CF₄ = 24Ce4.67（SiO4）3O + 44CeF3 + 33C,④2NaF + Si + 4MgO+ CF₄= Mg2SiO4 + 2NaMgF3 + C,⑤2Si + 7CaO + 2CF₄ = Ca3Si2O7 + 4CaF2 + 2C,⑥Si + 3SrO+ CF₄ = SrSiO3 + 2SrF2 + C,⑦Si + 4BaO+ CF₄ = Ba2SiO4 + 2BaF2 + C（3）NF3较CF₄易分解,在单一金属氧化物中,γ-Al₂O₃的反应活性最高,400oC反应时可保持100%的NF3转化率达8.5h。碱土金属改性Al₂O₃的脱氟活性不及纯Al₂O₃;过渡金属改性Al₂O₃的脱氟活性为:Co/Al₂O₃ > Fe/Al₂O₃ > Ni/Al₂O₃ > Cu/Al₂O₃≈Al₂O₃ > Zn/Al₂O₃,过渡金属的负载量以5%为宜,其中5%Co/Al₂O₃的脱氟活性最高。