磁控溅射离子镀膜机工件架系统设计

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随着人们生活水平的不断提高,越来越多的镀膜产品被广泛的应用,而与之相应的真空镀膜设备的制造也在镀膜技术的提升中变得愈加的重要。现在大部分的真空镀膜机仅能镀制一种膜,但是在实际工程中,有时需对同一工件或样品镀制两种不同的膜,重复定位会产生定位误差,使产品所镀的膜不均匀,这主要是由于镀膜机的工件架设计存在一定不足所造成的。本文是对磁控溅射离子镀膜机的工件架子系统进行了设计与分析,以半球型或半球壳型工件或样品为研究对象,采用三点支撑、升降换位以及样品自转的方式,使半球型或半球壳型工件或样品进行完全镀膜,确保工件或样品无漏镀现象。采用导轨装置使工件架平移至镀制第二种膜的位置,进行再次镀膜,可以实现对同一工件或样品镀制两种不同的膜,不仅避免了二次定位所产生的偏差与再次定位的繁琐,而且减少了二次定位给操作人员带来的安全方面的危险。运用solidworks三维设计软件,对磁控溅射离子镀膜机的工件架系统的自转升降部分和平移部分进行了仿真装配与模拟运动,对装配和运动的零部件进行了动态的干涉检查,增加了设计的精确性,减少了生产成本与生产周期。最后,利用有限元理论和ANSYS有限元软件,对真空磁控溅射离子镀膜机的镀膜室壳体在200℃环境下,进行了静力分析与研究。对镀膜室壳体进行有限元建模、网格划分、施加一定量的载荷,对其结构的稳定性和安全可靠性进行验证,通过对计算结果的分析和研究,并结合镀膜室壳体的实际工作情况,提出了对镀膜室壳体的结构改进设计,改进设计后的镀膜室壳体在稳定性和可靠性方面有明显提高,完全满足工程实际需要。
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