随着中国高新技术企业的迅速发展,以美国为首的发达国家对于中国高新技术企业的打压愈发激烈。而当前技术竞争中最主要的体现就是发达国家对集成电路知识产权保护问题愈发重视,由此引出对集成电路产业知识产权保护问题的研究。在现今的电子信息化时代,集成电路的重要性日益凸显,而集成电路中最特殊的部分就是集成电路布图设计。集成电路布图设计是确定用以制造集成电路的电子元件在一个传导材料中的几何图形排列和连接的布局设计。集成电路布图设计作为一种新兴的智力成果,是微电子技术的核心,是现代电子信息技术的基础。但是,自1984年美国颁布《半导体芯片保护法》以来,世界各国及国际组织对布图设计进行立法保护的过程中也出现了一定问题与争议。本文主要对布图设计知识产权保护过程中出现的问题和争议进行探究。本文通过四个部分对布图设计知识产权保护以及过程中出现的问题与争议进行了详细论述:第一部分首先介绍了对集成电路及布图设计概念与相关范围的确定;在确定布图设计范围之后探究为何对布图设计采用专门立法保护模式而不采用传统知识产权保护模式;第二部分分析了布图设计的国内外立法现状,包括了《保护集成电路知识产权的华盛顿条约》、《与贸易有关的知识产权协定》以及《集成电路布图设计保护条例》中主要内容以及存在的争议。第三部分分析布图设计目前存在的主要问题,主要包括:分析对于集成电路布图设计登记备案制度存在的问题以及实践中处理办法;分析布图设计法定赔偿具体数额缺失以及善意买主支付合理报酬具体数额的缺失问题;对于实践中侵权认定困难的问题,主要从布图设计自身与反向工程抗辩中“独创性”的认定和“实质性相似”标准的判断角度进行分析。通过分析司法实践中的案例与相关理论,总结归纳出对于上述问题的认定标准。第四部分提出对我国目前存在的布图设计知识产权保护问题的完善建议。