多晶硅太阳电池新型表面光学系统的研制

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【摘要】

：

用低成本的碱性腐蚀液制作太阳能级多晶硅片表面陷光结构,再匹配合适的双层氮化硅减反射膜,构成新型多晶硅表面光学系统。由NaOH:NaNO2=1:1(质量比,75-80℃)腐蚀25秒,用扫描电镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)给出硅片的表面形貌是类似片状的沟槽织构。用紫外可见分光光度计测试显示,硅片表面反射率降至21.9%(λλ=650nm),再沉积78-85nm厚,折射率为1.98～2.03的双层

【作者】

：

李云

【机构】

：

内蒙古大学

【发表日期】

：

2013年01期

【关键词】

：

太阳电池多晶硅冶金硅类单晶硅碱性腐蚀液减反射膜反射率表面形貌

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