镁合金以其优良的性能被广泛的应用。然而镁较负的电位使其需进行表面处理提高抗腐蚀能力。镁合金经微弧氧化处理后能显著提高基体的耐蚀性和强度。本文通过向电解液中加入功能粉体,利用微弧氧化技术,在基体合金表面形成粉体复合微弧氧化膜。研究添加的不同功能粉体对微弧氧化膜性能的影响,并采用SEM、XRD、电化学测试、点滴试验等检测手段进行膜层性能的检测。电解液中加入溶胶-凝胶法制得的铁氧体粉体,利用微弧氧化技术,在基体合金表面制出粉体复合膜。研究了电解液配方、粉体添加量、外加磁场等对复合膜层的影响,优化出了最佳的基础电解液配方及粉体的添加量。结果表明,加入纳米铁氧体粉体后膜层表面的孔洞和裂纹减少,膜层相成分增加了铁氧体相,膜层中Fe、Ba、Zn三种元素含量显著提高,复合膜层的腐蚀电位由微弧氧化膜的-1.089V增加到-0.869V,腐蚀电流由2.26×10-6A减小到2.95×10-7A,耐蚀性明显提高。外加磁铁条件可以促进复合膜层中铁氧体的含量,提高膜层的耐蚀性能,膜层的腐蚀电位由-0.869V提高到-0.813V,腐蚀电流由2.95×10-7A下降到1.86×10-7A。电解液中加入液相还原法制备的纳米镍粉,在镁合金表面制备出镍粉复合微弧氧化膜层。研究了粉体的添加对复合膜层耐蚀性及微观组织结构的影响,优化出了最佳的粉体添加量,并分析了甘油的加入及封闭实验对膜层性能的影响。结果表明,加入粉体后,复合膜层的表面光滑致密,孔洞量及尺寸减小,耐蚀性能明显提高,复合膜腐蚀电位为-0.843V,腐蚀电流为4.682×10-7A。甘油的加入可以使微弧氧化反应变得稳定,膜层放电孔径变小,提高了膜层的致密性和抗腐蚀能力,腐蚀电位为-0.832V,腐蚀电流为1.436×10-7A。封闭实验可以减少复合膜层的微孔数量,使膜层几乎无微孔和裂纹,提高膜层的抗腐蚀能力。通过化学镀的方法制备镍包覆Si C粉体,将制得的粉体加入到电解液中制备粉体复合微弧氧化膜。实验研究了镍包覆Si C粉体的添加对复合膜层耐蚀性及微观组织结构的影响,确定了实验的粉体添加量,并分析了超声波分散条件及封闭实验对膜层的影响。结果表明,粉体复合后的微弧氧化膜层表面致密,孔洞减少,几乎无裂纹,膜层的耐蚀性能有所提高,腐蚀电位为-0.913V,腐蚀电流为1.548×10-6A。超声波条件促进膜层中镍包覆Si C粉体的含量,增加膜层的耐蚀性能,腐蚀电位为-0.902V,腐蚀电流为4.164×10-7A。封闭实验可以减少复合膜层的微孔数量,使膜层几乎无微孔和裂纹,提高膜层的抗腐蚀能力。