【摘 要】
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本论文所提出的微尖端阵列无掩模光刻系统扩展了纳米加工的手段,是未来光刻技术发展的一种趋势。通过对本系统的研究,无需掩模,微尖端的发射电流就可直接曝光光刻胶,进行图形
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本论文所提出的微尖端阵列无掩模光刻系统扩展了纳米加工的手段,是未来光刻技术发展的一种趋势。通过对本系统的研究,无需掩模,微尖端的发射电流就可直接曝光光刻胶,进行图形生成及加工,还通过阵列并行直写大大提高了工作效率。取得的主要研究成果如下：1,设计并制做了无掩模光刻系统中的核心器件—微尖端阵列器件,开发了一整套用于制作微尖端阵列器件的MEMS制作工艺,并创新的提出了使用微尖端阵列来进行电子束直写。2,完整的制作了一套无掩模光刻平台,并完成了CIF版图文件到微动台可识别的二进制编码的转换。3,对微尖端阵列器件发射电子的能力进行了测试,取得了理想的测试结果。
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