本文结合国防科技预研项目，对计算复杂目标的等效边缘电磁流方法和等离子体涂层目标的电磁散射进行了分析。利用等效边缘电磁流方法计算了简单体的单站雷达散射截面，并与实测值进行了对比，吻合的相当好，计算了复杂目标（某导弹）的双站雷达散射截面；推导了单层精确阻抗边界条件和多层近似阻抗边界条件，在薄涂层的情况下，近似阻抗边界条件可以应用于计算不均匀涂层介质涂层的反射系数。利用tanh变换计算了Maliuzhinets函数，使得计算精度大大增加，将之应用于计算阻抗劈的Maliuzhinets方法，并结合多层阻抗边界条件，计算了不均匀等离子体涂层平板的电磁散射，初步得到了等离子体各参数对散射截面的影响规律。利用Mie理论计算了均匀及不均匀等离子体涂层球、柱的散射截面，分析了各频段下等离子体各参数（电子密度、碰撞频率、涂层厚度）适合隐身的范围，并且分析了各参数的变化对散射的影响。利用物理光学法分析了不均匀等离子体涂层某型号导弹头的电磁散射，使得RCS的最大减缩可以达到20个DBsm左右。