【摘 要】
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该文围绕光调制直接重写磁光多层膜理论分析与测试方法,从理论和实验上进行了深入、系统的研究.理论上,利用光学偏振原理,计算了除法式磁光信号检测输出与磁光克尔角的关系.
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该文围绕光调制直接重写磁光多层膜理论分析与测试方法,从理论和实验上进行了深入、系统的研究.理论上,利用光学偏振原理,计算了除法式磁光信号检测输出与磁光克尔角的关系.利用琼期矩阵对磁光存储系统读出信号部分光束的偏振态进行了分析,研究了系统中各种光学元件对磁光盘测试结果的影响.运用电磁场理论,计算了斜射光线对磁光薄膜克尔角、椭圆率及反射率等偏振特性的影响.实验上,研制成功了磁光多层膜光强调制直接重写记录特性测试系统,同时磁光信号检测电路由传统差动式检测改进成除法式检测,设计了磁光信号检测的最佳光学补偿.建立了磁光薄膜疲劳测试系统.
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