印迹功能化有序硅基介孔材料的制备和应用研究

来源 :华南理工大学 | 被引量 : 0次 | 上传用户：zzyu888888

【摘要】

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ue＊M＃’＃dkB4＃＃8＃”专利申请号:00109“7公开号:1278062申请日:00.06.23公开日:00.12.27申请人地址:（100084川C京市海淀区清华园申请人:清华大学发明人:隋森芳文摘:本发明属于生物技

【作者】

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岑水斌

【出处】

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华南理工大学

【发表日期】

：

2004年期

【关键词】

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分子(离子)印迹技术介孔二氧化硅三价铬六价铬壬基酚

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ue＊M＃’＃dkB4＃＃8＃”专利申请号:00109“7公开号:1278062申请日:00.06.23公开日:00.12.27申请人地址:（100084川C京市海淀区清华园申请人:清华大学发明人:隋森芳文摘:本发明属于生物技术领域,包括主机、控制电路和计算机三部分组成,主机包括由棱镜。敏感膜敏感芯片、半导 Ue*M#

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