多靶磁控共溅合成nc-B4C/a-Ti和nc-B4C/a-Si3N4纳米复合薄膜的研究

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本文利用多靶磁控共溅射技术在Si(100)基底和不锈钢基底上设计合成nc-B4C/a-Ti和nc-B4C/a-Si3N4纳米复合薄膜。利用表面轮廓仪,纳米力学测试系统,摩擦磨损测试系统研究薄膜的内应力,表面硬度、弹性模量,薄膜与基底的附着力以及摩擦系数和耐磨性;还通过X射线衍射(XRD)和透射电子显微镜(TEM)等分析手段研究了薄膜的结构特征;通过X射线光电子能谱测试(XPS)分析其成分和元素的化学结合方式。揭示实验参数和纳米复合薄膜结构,成分以及力学性能之间的相互关系,找出合成最佳的工艺,使复合层
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