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TFT混切技术的干蚀刻制程工艺优化研究

来源 :华南理工大学 | 被引量 : 0次 | 上传用户：qjinglihong

【摘 要】

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【作 者】

：

袁林 

【出 处】

：

华南理工大学

【发表日期】

：

2004年期

【关键词】

：

混切技术 干蚀刻 a-Si残膜均一性 负载效应 

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