研究表明,As(III)能与浓盐酸反应生成挥发性三氯化砷,而As(V)不能与盐酸反应生成挥发性氯化物。利用该原理,将挥发性三氯化砷化学蒸气发生法作为进样方式,原子荧光光谱分析法作为检测技术,建立了一种测定As(III)的新方法,该方法也可间接用于对As(V)的测定。首先对样品进行消解,然后根据被分析样品的特点,分别采用10%碘化钾溶液还原体系或维生素C(10%)-硫脲(10%)的混和液还原体系将样品中的As(V)还原为As(III),从而进行分析测定。对仪器各种工作条件如空心阴极灯灯电流、光电倍增管负高压、原子化器高度、屏蔽气(氩气)流速,以及化学蒸气产生的各种条件如氩气载气流速、氢气流速、样品和反应试剂盐酸的浓度、载流盐酸的浓度等进行了详细的优化研究。此外,对16种常见离子的干扰情况也进行了详细的探讨,实验结果表明本方法具有很好的抗干扰能力。在最佳优化的实验条件下,砷的浓度在0.01～4.0 mg/L范围内与原子荧光强度呈现良好的线性,检出限(3σ)为6.0μg/L。对0.1 mg/L As(III)连续测定七次,相对标准偏差(RSD)为4.0%。本论文提出的方法成功地用于测定一些标准样品(不锈钢成分分析标准物质、合金结构钢成分分析标准物质、铜合金标准物质、单元素溶液成分分析标准物质)、铜未知样品以及加标钴样品中的砷含量,本法测定的未知样品中的砷含量与用电感耦合等离子体-质谱法(ICP-MS)测定的砷含量结果一致。总体上,该方法具有简单、灵敏、干扰少等优点,特别适用于测定过渡金属含量很高的不锈钢、合金等样品中的砷含量。