【摘 要】
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氮化铝(AlN)作为第三代半导体材料的代表,具备宽带隙(6.2e V)、高热导率、高击穿场强、耐高温以及耐化学腐蚀等优异特性,在微电子和光电子领域具有巨大应用前景。物理气相传输(PVT)法被认为是制备大尺寸AlN单晶体最有效的方法。目前,采用PVT法制备的AlN晶体尺寸已经达到两英寸。AlN晶体PVT法生长的温度十分高(超过2400K),且生长窗口窄,故对生长系统提出了很高的要求,特别是衬底材料。
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氮化铝(AlN)作为第三代半导体材料的代表,具备宽带隙(6.2e V)、高热导率、高击穿场强、耐高温以及耐化学腐蚀等优异特性,在微电子和光电子领域具有巨大应用前景。物理气相传输(PVT)法被认为是制备大尺寸AlN单晶体最有效的方法。目前,采用PVT法制备的AlN晶体尺寸已经达到两英寸。AlN晶体PVT法生长的温度十分高(超过2400K),且生长窗口窄,故对生长系统提出了很高的要求,特别是衬底材料。目前可用的衬底材料主要为耐高温的钨、碳化钽、碳化硅等屈指可数的几种。AlN晶体与这些衬底之间存在一定的晶
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多孔材料,例如活性炭、分子筛、介孔硅等,在人类的生产和生活中发挥了重要作用。但是传统的多孔材料在发展过程中也存在一些问题,例如结构的不确定性、比表面积突破较困难等。1999年,O.M.Yaghi教授报道了金属有机框架材料(Metal-Organic Frameworks,MOFs)MOF-5,迅速引起了科学家们的广泛关注。在过去的二十多年里,依据一套完善的配位化学原理,科学家们在制备新型金属有机框
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挥发性有机化合物在人类生产生活中广泛存在,在化学、材料、医学、环境和食品等诸多领域发挥着重要作用,其含量和结构的不同将会导致物质性质和功能的显著差异,因此挥发性有机物的快速分析具有重要意义。目前挥发性有机化合物的分析方法主要有气相色谱质谱联用法、选择离子流动管质谱法和质子转移反应质谱法等,但是这些方法还存在一些弊端。如气相色谱质谱联用法通常需要复杂的样品预处理,样品耗量大,操作繁琐,费时费力。此外
非球面光学元件由于具有优良的光学性能,在现代光学系统中应用的越来越普遍。离子束修形具有去除函数稳定、非接触式加工和加工精度高等优点,常被应用于高精度非球面的加工。在离子束三轴抛光系统中,相比于平面光学元件,非球面上的去除函数发生明显变化,驻留时间计算方法也与平面不同,加工难度相对较高。针对非球面加工中的各种问题,本文对非球面上去除函数模型建立、面形偏差计算、路径规划、驻留时间求解以及离子束修形计算
针对水资源的污染与短缺问题,人类始终在不断探索更加环保的处理方案。光催化作为一项绿色环保技术,其可将太阳能转化为化学能,用来处理水污染问题备受好评。光催化剂中,TiO_2各项性能优异,但商业化制备出的TiO_2即P25,反应是在高温条件下进行,过程会出现一定腐蚀,故而制备产品的设备需要具备抗腐蚀性,并且操作技术要求高。因此需要寻找制备方法简单且性能高的TiO_2。本实验对TiO_2进行了如下主要研