电子级过氧化氢主要用于精密电子工业领域，特别是集成电路中硅晶圆清洗，是一种十分重要的化学清洗品。近年来，随着集成电路的尺寸微小化发展，对其质量也提出了越来越苛刻的要求。 本文首先综述了国内外现有的电子级过氧化氢的制备方法，并介绍了一些适合高纯过氧化氢提纯的树脂。在对其性能进行初步测试的基础上，采用正交实验法，筛选了部分适合的树脂，优化部分工艺参数，并且讨论了树脂的种类、床层倍数、吸附时间、交换温度、H<,2>O<,2>的浓度等因素对杂质去除的影响。 在动态小试实验中，空速和床层的高径比等因素得到进一步的优化，并确定了提纯工艺路线，其中包括用于预处理进料的精馏塔、大孔吸附床，阳离子交换床、阴离子交换床和微滤过滤器，所有的装置串联在一起。小试的结果表明，杂质能够有效去除。 中试实验中：采用合适的预处理和运行参数，安全地生产了质量稳定的高纯过氧化氢溶液，产品质量达到SEMI C7级，其中FOC低于20 ppm，阴离子杂质含量低于100 ppb，阳离子杂质含量低于20 ppb。