基于数字掩模光快速成形技术的微光学元件制作工艺研究

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随着光电子技术的迅速发展,以及光、机、电一体化的发展趋势,对光学系统及其元器件提出了微型化、阵列化与集成化的应用要求。微光学元件具有体积小、重量轻、造价低以及可以实现普通光学元件难以实现的微小、阵列、集成、波面转换等功能,成为制造微光电子系统的关键元件。目前,微光学的制作技术主要有基于光刻的有掩模和无掩模制作技术,基本的制作工艺来源于大规模集成电路中的微电子平面加工技术,对于制作表面三维浮雕复杂结构的微光学器件存在自身的局限。而先进制造技术中的光快速成形技术用于微细加工,可以较好地实现三维复杂结构的
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