石墨烯纸作为一种新兴的石墨烯类材料,基于其优异的热学与电学性能,在传感器、晶体管、清洁能源电池及热耗散复合材料中被广泛应用。在过去的热学研究中,其高导热率被应用较多。在新型红外辐射源或宽光谱红外吸收体等辐射器件中,对整体光学与热学性能的调制,石墨烯纸的热辐射特性则发挥着主导作用。所以,探究石墨烯纸的辐射特性,对完善材料物性及在能耗材料的应用分析中十分重要。本文主要对石墨烯纸在不同温度及表面结构下的辐射特性进行研究。首先,给出了常温及升温条件下石墨烯纸热辐射特性的测量原理与方法。常温时基于基尔霍夫定律,应用傅里叶红外光谱仪的积分球附件进行测量。升温时,基于能量法,首先采用发射率测量附件,通过自制标准黑体,构建了测量系统;再应用自制的外部加热装置,搭建样品加热系统,在此基础上建立了大尺寸不透明样品光谱发射率的测量方法。其次,探究了石墨烯纸在常温及升温条件下,采用不同测量方法时光谱发射率的变化规律。常温时,分析了表面法向光谱发射率及精确漫反射、镜面反射的变化特征;升温时,基于研制的加热系统,分别通过间接加热与直接通电加热法,对样品表面的辐射特性进行了分析。同时研究了大尺寸表面光谱发射率的空间分布特征,并对不同加热方法进行了误差分析。得到在不同的加热方法下,随温度上升,石墨烯纸表面发射率在2.5-9.5μm增加,10.5-20μm下降,9.5-10.5μm出现发射率不随温度变化的交叉点,且发射率分布均匀。再次,采用等离子体对石墨烯纸表面进行刻蚀。研究了在氧气与氩气气氛中,不同刻蚀模式下,石墨烯纸表面结构的变化对全波段法向光谱发射率的影响。氧气气氛下进行化学刻蚀时,随刻蚀时间增加样品表面结构未发生较大变化,由于层-层刻蚀样品变薄薄发射率不变;氩气气氛下进行物理刻蚀时,样品表面被挤压出约50nm的凸起。最后,基于激光刻蚀的方法,研究了一维光栅结构与二维井字栅格结构对石墨烯纸表面光谱发射率的影响。在一维光栅结构中,通过改变刻蚀功率与刻蚀间隔,对样品直接通电加热,对比了光栅凹槽深度、间隔改变引起的表面结构变化,及采用相同结构改变通电方向后光谱发射率的变化规律。凹槽深度增加,发射率上升;通电方向的改变不引起发射率的改变,同时采用不同刻蚀间隔时,石墨烯纸表面发射整体未发生改变。在二维井字栅格结构中,探究了相同刻蚀结构的样品,在间接与直接通电加热条件下光谱发射率的特征。不同加热条件下,温度相近时发射率基本一致,发射率随温度增加而上升。得到在两种刻蚀结构中,大尺寸光栅结构石墨烯纸在加热时表面温度均匀。