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全息离子束刻蚀衍射光栅是通过全息光刻制作出光刻胶光栅掩模和离子束刻蚀将其转移到光栅基底上而制成,它集中了机械刻蚀光栅的高效率和全息光栅的无鬼线、低杂散光、高信噪比的优点.全息离子束刻蚀已作为常规工艺手段应用于真空紫外及软X射线衍射光栅的制作.该文首先概述全息光栅制作原理及必要的实验条件,在此基础上对全息离子束刻蚀衍射光栅制作工艺进行系统的研究,并给出同步辐射闪耀光栅、位相光栅和用于惯性约束核聚变诊断的软X射线自支撑透射光栅研制结果.