光刻技术是利用光刻胶感光后发生光化学反应特点,结合化学、物理刻蚀方法,将掩模板的图形刻制到被加工表面上的技术。在光刻加工中,光刻胶涂覆是一个重要的技术环节。本文针对大尺寸曲面光刻胶的涂覆,采用理论分析和实验研究相结合的方法,对大尺寸凸曲面光学元件涂布光刻胶的可行性进行研究。在雾化喷涂机理进行分析的基础上,结合凸球面的特性建立了光刻胶膜厚的数学模型。然后以数学模型为依据设计出一种可以用于凸球面基底涂胶的超声波雾化喷涂装置。使用该装置在口径为100mm,曲率半径为120mm的凸球面基底上进行膜层厚度为5μm的涂覆实验。所涂覆的光刻胶膜厚和均匀性都达到了所需的要求。文中同时对影响光刻胶膜厚的主要因素进行了分析。实验结果表明：其他参数不变的情况下,光刻胶的喷射量存在一个临界点。喷射量在临界点以内,光刻胶膜厚的数学模型可以预测膜层的生长。反之,膜厚的数学模型预测失败；当喷嘴停留时间超过临界值时期受到外界的干扰因素不断的增加,从而使得喷涂的光刻胶膜厚偏离理论值；光刻胶的固体含量即要根据喷涂的厚度来选择,又要考虑光刻胶黏稠度的影响。