【摘 要】
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该论文在研究界面特性对非晶、红领巾米晶金刚石薄膜场致电子发射的影响方面主要做了以下几项工作:1、首次研究了沉积在金属表面的非晶金刚石薄膜场发射区域和未发射区域与拉
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该论文在研究界面特性对非晶、红领巾米晶金刚石薄膜场致电子发射的影响方面主要做了以下几项工作:1、首次研究了沉积在金属表面的非晶金刚石薄膜场发射区域和未发射区域与拉曼光谱(结构特征)的对应关系.2、首次比较系统和全面地研究了化学腐蚀方法处理硅衬底对沉积在基上的非晶、纳米晶金刚石薄膜的场致电子发射性能的影响,全面分析了化学腐蚀硅衬底镀膜前后表面粗糙度指数与场致电子发射性能之间的关系,发现发射性能良好的粗糙发射体具有最大的平均粗糙度指数,进一步实验了优化处理条件.3、首次利用高分辨透射电镜观察到场致电子发射过程中非晶金刚石薄膜内部的结构相变(产生纳米晶金刚石微粒)现象,提出了场致诱导相变阶越增强电子发射的机理,该模型认为非晶金刚石薄膜场发射增强与金刚石薄膜一样是由于一面负电子亲和势和内部导体通道共同作用的结果.
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