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【摘 要】
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利用湿法刻蚀制备半导体纳米结构具有很多优点：可以在常温下进行，过程简单，不需要复杂的反应设备，能够制备大面积的定向纳米结构阵列；在辅以模板的情况下，容易得到图形化的纳米结构
【机 构】
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中国科学院大学
【出 处】
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中国科学院研究生院 中国科学院大学
【发表日期】
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2011年期
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