在当今能源紧缺的大环境下，LED以其低能耗的优越性逐渐成为背光显示以及照明产业的主力军。衬底及外延制作作为半导体产业技术的基石，直接决定LED芯片的制造路线，对该技术的掌握与否，关系到生产制造LED产品的造价和规模。在开放式创新模式下，技术创新已成为LED衬底及外延制造企业发展的必经之路。同时，LED技术快速更新换代，专利竞赛等导致大量的专利丛林问题，从而可能出现专利分散现象。因此，对LED专利的分散度进行测量，提出我国政府和企业可选择的专利战略建议，对于促进我国LED产业发展具有重要意义。本文旨在探讨LED衬底及外延专利的分散情况，并对出现这种分散性分布的原因进行分析，借此对我国LED企业的发展提供专利信息支持和方向参考。通过对LED产业的整体把握，重点研究衬底及外延技术，结合LED产业专利现状，利用吉布斯-马丁的专利分散度测量指数以及方差理论对衬底及外延专利进行分散度测量。通过对LED衬底及外延生长技术的专利检索，再利用吉布斯-马丁的专利分散度测量指数，从整体上测量出我国LED衬底及外延制作专利从2003年到2011年随时间呈现分散趋势。利用方差理论的逆向思路对我国LED衬底及外延制作中的各细分技术领域按IPC分类进行测度研究，得出在H01L33/00小组，呈现较集中趋势，而在其他相关IPC小组呈现明显的分散趋势。研究表明，我国LED上游企业在专利战略上应进行专利集中策略，通过企业与高校的合作，企业与企业的合作以及第三方专利运营公司的专利集中方式来提高企业对市场的掌控和应变能力。