无机阳极电致变色材料氧化镍（NixOy）作为一种常见的宽带隙P型半导体金属氧化物,具有优异的化学稳定性和光学对比度。NixOy薄膜的电沉积具有高结晶度和大比表面积的优点,但响应时间、光调制幅度以及循环稳定性等实际性能问题阻碍了电沉积纳米结构NixOy薄膜的应用。本文主要研究了沉积参数（离子浓度、沉积电压、沉积时间）、热处理温度以及十二烷基硫酸钠（SDS）的添加量对电沉积NixOy薄膜电致变色性能的影响,并优化出最佳参数以改善电沉积NixOy薄膜的电致变色性能。首先,对不同Ni离子浓度条件下制备NixOy薄膜进行表征与测试。薄膜表现出疏松多孔的表面形貌,其电荷密度和光调制幅度与Ni离子浓度呈正相关。当Ni离子浓度为1.0 M时,薄膜离子扩散速率与响应速度远远高出其他离子浓度,响应时间大幅度提升。其次,在对沉积电压的研究中发现,NixOy薄膜表面形貌随着沉积电压的增大而变得疏松,疏松结构极大地提高了薄膜离子扩散速率。1.2 V沉积电压沉积所得薄膜的致/褪色过程离子注入/脱出扩散速率达到1.33 x10-9cm~2/s和8.99 x10-8cm~2/s,致/褪色响应时间得到提升,同时薄膜的光学性能也有所改善。沉积时间也对NixOy薄膜表面形貌和光调制幅度产生影响。20 min沉积所得NixOy薄膜具有均匀的多孔形貌。随着沉积时间增加,薄膜更加致密,气孔聚合,薄膜表面遭到破坏。随着薄膜厚度的增厚,光学透过率减小,致色效率也亦降低。然后,考察了不同热处理温度制备NixOy薄膜的晶体结构变化和电致变色性能,当热处理温度为200℃沉积所得薄膜表面形貌形态不定。热处理温度升至250℃时,薄膜表现出多孔形貌。随着热处理温度继续升高,薄膜表面变得致密。250℃沉积所得薄膜虽然电致变色性能略逊色于200℃沉积所得的非晶态薄膜,但是可以显著地提高循环稳定性,解决了NixOy薄膜循环稳定性较差的问题。最后,加入十二烷基硫酸钠对NixOy薄膜进行表面改性。SDS的加入抑制了NixOy薄膜晶体的生长,有利于薄膜生成纳米颗粒结构,对NixOy薄膜的表面、电化学性能、光学特性以及循环稳定性有极大的提升。6 wt%SDS沉积所得NixOy薄膜的致/褪色响应时间缩短至5.0 s和3.6 s,在600 nm处表现出71.69%的超高光调制幅度,循环稳定性也得到了成倍提升。