【摘 要】
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采用真空蒸镀方法,该文成功地制备了用于交流薄膜电致发光(TCTFEL)平面显示器透明电极的40nmZnS/18nmAg/40nmZnS(D/M/D)纳米多层薄膜.该薄膜具有优良的导电性能(R=3Ω,/CMΩ
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采用真空蒸镀方法,该文成功地制备了用于交流薄膜电致发光(TCTFEL)平面显示器透明电极的40nmZnS/18nmAg/40nmZnS(D/M/D)纳米多层薄膜.该薄膜具有优良的导电性能(R<,S>=3Ω,/CM<'2>)和良好的截止滤通特性,在可见光区域视觉透过率T<,lum>≈90﹪,在红外区域反射率R<,2500>>95﹪,并且在550nm波长处电气评价指标F<,tc>最高可达7.3×10<'-2>Ω<'-1>,超过了现有透明导电氧化物薄膜和ITO/Ag /ITO多层膜,为大屏幕、高清晰度平面显示器提供了关键元件.同时,该文还对Ag、ZnS单层膜、Ag/ZnS双层膜的表面形貌、微结构和光电性能以及D/M/D透明导电膜的结构设计、导性能、光学性能及影响因素进行了详细的分析讨论.
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