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该文工作开创性地建立了电子回旋增强等离子体活化反应离子镀方法,较系统地研究了制备立方氮化硼薄膜过程中各种条件对其影响,建立了稳定的制备工艺,实现了低压沉积立方氮化硼薄膜分析了热阴极非自持弧光放电这一特殊现象及其在立方氮化硼成膜过程中的作用.并采用梯度层的方法提高了立方氮化硼薄膜的附着力.
电子回旋增强弧光等离子体活化反应离子镀方法的建立及立方氮化硼薄膜的制备
【摘 要】
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该文工作开创性地建立了电子回旋增强等离子体活化反应离子镀方法,较系统地研究了制备立方氮化硼薄膜过程中各种条件对其影响,建立了稳定的制备工艺,实现了低压沉积立方氮化
【机 构】
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吉林大学
【出 处】
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吉林大学
【发表日期】
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1996年期
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