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本研究以非平衡磁控溅射技术制备TiN薄膜为主要内容，通过对镀膜后继处理工艺和TiN/Ti（C，N）多层复合梯度膜的研究和探索，扩展了TiN硬质薄膜的制备工艺，同时，对TiN薄膜应用于口腔义齿保护膜的生物安全性进行了研究，为TiN薄膜应用于口腔临床提供实验依据。主要研究内容如下：
⑴对非平衡磁控溅射离子镀TiN薄膜的制备工艺、薄膜结构及性能进行了系统的研究，着重分析了薄膜微观结构与薄膜性能之间的规律性联系。研究发现，在非平衡磁控溅射制备TiN薄膜的工艺参数中，氮气分压、基底偏压对薄膜的结构和性能影响最为显著，当TiN薄膜呈现明显的{111}择优取向时，薄膜具有最佳的力学性能。
⑵在对TiN薄膜制备工艺研究的基础上，研究了后继热处理工艺和离子轰击对非平衡TiN薄膜结构和性能的影响。不同热处理工艺的TiN薄膜XRD结果显示，TiN薄膜的晶格取向明显受到热处理温度和升温速率的影响，并且，与未经热处理的样品相比较，薄膜的硬度和耐磨损性能均有所下降。而采用氮离子轰击TiN薄膜，更有利于薄膜{111}取向生长，相应的薄膜的显微硬度有所提高，耐磨性能得到了极大的改善。同时，氮离子的轰击有效地改善了薄膜的表面粗糙度，当氮离子轰击能量为1．5Kev时，薄膜粗糙度可达Sa=0．498nm。
⑶进行了非平衡磁控溅射技术沉积TiN/Ti（C，N）多层复合梯度膜的研究和探索。对比TiN/Ti（C，N）复合梯度膜和TiCxN1-x（0
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