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CuAlO_2薄膜是1997年Kawazoe等人基于价带化学修饰(CMVB)理论首次制备出的铜铁矿结构p型透明导电氧化物薄膜。自从CuAlO_2薄膜被发现是一种p型透明导电氧化物,便引起了广泛的关注。然而,制备性能良好的CuAlO_2薄膜一直是一个难题,到目前为止,已经研究了多种制备CuAlO_2薄膜的方法,主要包括脉冲激光沉积(PLD)、磁控溅射、化学气相沉积等。为了制备出性能优良的CuAlO_2薄膜,本文首先探索了高质量的CuAlO_2陶瓷靶材的制备工艺。我们选用Cu_2O、Al_2