论文部分内容阅读
该文采用磁探溅射方法制备由接近零磁致伸缩的三元合金铁磁性颗粒和非磁性基体组成的、适用于高密度磁记录读磁头用的NiFeCo/Ag巨磁阻合金颗粒膜.并且利用卢瑟福背散 射(RBS)、X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)、磁力显微镜(MFM)、变温四探针磁电阻测 量方法以及超导量子干涉磁强计(SQUID)等先进的分析手段,研究样品巨磁阻(GMR)效应随磁场强度、测试温度及样品制备条件的变化关系.磁控溅射方法在制备新颖的磁性材料薄膜结构方面是一种很有发展希望和潜力的技术.