该文就目前国内外解析有机涂层/金属体系阻抗谱中的几个关键问题,如等效电路模型的普适性与客观性、参数随时间变化的规律性、腐蚀产物和难以控制的涂层厚度对平行样品阻抗谱重现性的影响、分析结果的精度与可定量的程度、参数物理意义的明确性、与界面粘结力之间的关系等,提出使用CR传输线系列模型是个有价值的综合解决方案.文中论述了选用CR电路解析有机涂层/金属体系阻抗谱的原因、文献背景,以及对不同特征阻抗谱的通用性.尤其重要的是根据CR电路和QR电路参数之间数学关系,提出了用传输线模型分析阻抗谱的简单实用方法,它与传统的一个过程对映一个单独参数的概念有所不同.根据拟合误差和参数的有关物理意义,探讨了与有机涂层/金属体系密切相关的3类典型样品(完整的和有缺陷的涂层/金属样品,裸金属基底样品)的CR电路分析方法,结果说明使用不同结构的CR电路,如mCRRC、mCRR可以分别得到一些仅决定于阻抗谱的特征,而与传输线结构和长度m无关的一些特征参数,它们具有比较明确的物理意义、精度高、随时间变化规律性强,可以有效的用于评价有机涂层/金属体系.作为应用实例,在第6章研究了CR电路的mCRR结构在评价和筛选硅烷预处理A<,3>钢工艺条件中的应用.在第7章,研究了CR电路对完整的涂层的阻挡性的评价,提出了评价空隙率和涂层最佳厚度的方法.在第8章,从理论和试验上定量关联了阻抗谱的分析结果与环氧涂层/A<,3>钢界面的粘结力.