Ⅲ-Ⅴ族半导体纳米材料新制备路线探索和性质表征

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该文在Ⅲ-Ⅴ族半导体纳米材料的新合成路线方面进行了一些有益的探讨,开发出了包括常温常压有机溶剂中的离子交换反应、溶剂热条件下单质直接反应、水引发固相交换反应方法在内的合成磷化镓(GaP)、磷化铟(InP)和氮化铝(AlN)纳米晶的新方法,并且对苯热合成GaP纳米晶的反应过程进行了系统研究.此外,该文还首次把Ⅲ-Ⅴ族半导体纳米材料应用于几种重要的有机催化反应,取得了较好的结果.该文对GaP纳米棒的生长机理做了初步分析.在分析实验结果基础上,总结出了GaP纳米晶的最优化的合成工艺条件,实现了GaP纳米晶的高产率制备,且制备的纳米晶的粒度可以根据需要进行调控.实现了GaP纳米晶的可控制备后,该文又利用谱学方法对它的性质进行了研究,发现:磷化镓纳米晶吸收光谱上的拐点大幅蓝移,禁带宽度增大.相应地,在拉曼光谱中,磷化镓的横光学声子振动模(TO)和纵光学声子振动模(LO)都移向低波数.这些结果说明GaP纳米晶有很强的量子限制效应.为了进一步简化操作步骤,排除副产物的影响,我们尝试在有机溶剂中用金属镓、铟与磷直接反应合成GaP和InP纳米晶.由于纳米材料具有大比表面积和表面原子配位不饱和特点,它作为催化剂具有很大的优势.鉴于Ⅲ-Ⅴ族纳米材料表面含有大量高活性的Ⅲ族原子,在催化反应中可以作为路易斯酸中心,为此,我们首次将GaP、InP、AlN三种纳米晶应用于几个重要的有机催化反应之中.
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