本文采用液体培养的方法，研究了镉（Cd）单独及其与硒（Se）组合对黄瓜毛状根生长、可溶性蛋白含量、抗氧化酶（POD和SOD）活性、MDA含量的影响，以及Se对Cd的吸附吸收及亚细胞分布的影响。所得结果如下：　　 低浓度（≤5.0μmol/L）Se促进黄瓜毛状根生长，其中以添加1.0μmol/L Se效果最佳；而Se浓度>5.0 μmol/L时则抑制黄瓜毛状根生长，且Se浓度越高抑制作用越明显，不仅其主、侧根变短而疏，而且根段易变红变软或腐烂。　　 与对照相比，10 μmol/L Cd能促进毛状根生长，50 μmol/L Cd开始抑制生长，主、侧根变粗；100 μmol/L Cd使主、侧根稀疏，更粗短，根尖肿胀，颜色变黄或黑褐，表现出毒害症状。低浓度Cd促进毛状根可溶性蛋白的产生，提高POD活性、MDA含量及培养初期SOD活性；而高浓度Cd（≥100μmol/L）使毛状根POD活性降低，SOD活性先升后降，使MDA含量升高，而可溶性蛋白含量仅在培养初期高于对照。　　 与对照（仅添加高浓度Cd）相比，外源添加0.5～5.0μmol/L Se可缓解高浓度Cd对毛状根生长的抑制和毒害，维持蛋白质含量相对稳定，但硒浓度大于5.0μmol/L可使毛状根可溶性蛋白质含量相对降低，表现出Se-Cd协同毒害现象；而在Cd胁迫浓度下加入0.5～5.0μmol/L Se还可明显提高毛状根的SOD活性，大大降低毛状根MDA含量。而当黄瓜毛状根在Cd抑制浓度（50μmol/L）中养时，添加适量Se可适当降低其POD活性，在毒害浓度（≥100μmol/L）中培养时，添加适量Se可适当提高其POD活性，从而都维持POD活性在一定水平，减轻Cd对黄瓜毛状根生长的抑制或毒害。　　 黄瓜毛状根对Cd的吸附吸收量随Cd浓度增大而增大；外源添加Se可促进毛状根对Cd的吸收，其中以1.0μmol/L Se的效果最佳，但外源添加Se对Cd的吸附量影响不大。Cd单独处理时，83.17％～91.04％的Cd分布在含细胞壁的部分（F1组分）和细胞质可溶性部分（F4组分），只有少量的Cd分布在细胞核和叶绿体（F2组分）、线粒体（F3组分）等细胞器组分。在Se/Cd复合处理中.毛状根中的Cd也主要分布在F4和F1组分中，其分配比例达到5 1.03％～60.28％和28.46％～37.82％，两个组分的含量占总量的87.17％～92.28％。可见添加适量Se可促进Cd的吸收，同时可改变Cd在毛状根各组分的分布比例。表明Cd在毛状根的亚细胞分布时，主要分布在细胞壁组分和细胞质可溶性部分。　　 本研究结果表明，外源适量Se可促进黄瓜毛状根的生长、影响其抗氧化酶活性，促进毛状根对Cd的吸收，改变Cd在毛状根亚细胞分布的比例。该结果为今后利用黄瓜毛状根或具发达根系的黄瓜毛状根再生植株，来对受重金属Cd污染的环境进行植物修复奠定了实验和技术基础和提供了可能性。